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英杰電氣中頻濺射電源憑借優(yōu)異的波形調(diào)制技術(shù)，可實(shí)現(xiàn)輸出直流、直流脈沖、雙向方波、雙向梯型波等波形。產(chǎn)品具有輸出波形可調(diào)，輸出頻率可選，占空比可調(diào)，功率控制精準(zhǔn)，以及低能量存儲(chǔ)和快速的電弧反應(yīng)。為鍍膜工藝提供便利、精準(zhǔn)的控制。產(chǎn)品主要應(yīng)用于各種薄膜制造工藝，太陽能電池片行業(yè)，真空鍍膜行業(yè)；應(yīng)用工藝：磁控濺射工藝、孿生靶濺射、管式PECVD。

MSD系列直流濺射電源采用公司最核心的直流控制系統(tǒng)結(jié)合優(yōu)異的弧光處理方案，從而使產(chǎn)品具有非常穩(wěn)定的性能，產(chǎn)品可靠性高，電弧損傷小，工藝重復(fù)性好。采用中英文顯示界面，操作簡便。

RPJ 系列射頻電源依靠成熟的射頻發(fā)生技術(shù)為基礎(chǔ)，為客戶提供更大的功率、精度更高、響應(yīng)快速的射頻電源。具有相位可設(shè)、脈沖可控等功能。適用領(lǐng)域：光伏產(chǎn)業(yè)、平板顯示器行業(yè)、半導(dǎo)體行業(yè)、化工業(yè)、實(shí)驗(yàn)室、科研、制造業(yè)等。適用工藝：等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）、等離子體刻蝕、等離子體清洗、射頻離子源、等離子體擴(kuò)散、等離子體聚合濺射、反應(yīng)濺射等。

RHH系列射頻電源依靠成熟的射頻發(fā)生技術(shù)為基礎(chǔ)，為客戶提供更大的功率、精度更高、響應(yīng)快速的射頻電源。具有相位可設(shè)、脈沖可控、數(shù)字調(diào)諧等功能。適用領(lǐng)域：光伏產(chǎn)業(yè)、平板顯示器行業(yè)、半導(dǎo)體行業(yè)、化工業(yè)、實(shí)驗(yàn)室、科研、制造業(yè)等。
適用工藝：等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）、等離子體刻蝕、等離子體清洗、射頻離子源、等離子體擴(kuò)散、等離子體聚合濺射、反應(yīng)濺射等。

RLS系列射頻電源采用目前穩(wěn)定可靠的功率放大器和公司最核心的直流控制系統(tǒng)，從而使產(chǎn)品具有非常穩(wěn)定的性能，產(chǎn)品可靠性高。采用中英文顯示界面，操作簡便。主要應(yīng)用于光伏產(chǎn)業(yè)、平板顯示器行業(yè)、半導(dǎo)體行業(yè)、化工業(yè)、實(shí)驗(yàn)室、科研、制造業(yè)等。

適用于光伏產(chǎn)業(yè)、平板顯示器行業(yè)、半導(dǎo)體行業(yè)、化工業(yè)、實(shí)驗(yàn)室、科研、制造業(yè)等領(lǐng)域。適用于等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD)、等離子體刻蝕、等離子體清洗、射頻離子源、等離子體擴(kuò)散、等離子體聚合濺射、反應(yīng)濺射等工藝。

可適配于RLS系列射頻電源使用，廣泛應(yīng)用于等離子刻蝕、鍍膜、等離子清洗、等離子去膠等工藝。單獨(dú)使用時(shí)，可與其他廠家射頻電源配套使用。